
Die Atomlagenabscheidung ist ein modifiziertes Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung. Die Merkmale des Prozesses sind zwei aufeinanderfolgende sich selbst begrenzende Oberflächenreaktionen, sodass extrem dünne, defektarme und äußerst homogene Schichten abgeschieden werden können. Ein wesentlicher Vorteil ist hierbei die präzise Kontrolle von Schichtdicke und Materialzusammensetzung für dreidimensionale, komplex-geometrische oder strukturierte Substrate, wodurch hochkonforme und -uniforme Schichten realisiert werden.
Das Fraunhofer IST bietet Kundinnen und Kunden aus Industrie und Forschung anwendungsspezifische und flexible Lösungen an. Unser Angebot im Bereich konformer Beschichtungen reicht von der Prozessentwicklung für thermische ALD-Schichtsysteme bis zu Entwicklungen maßgeschneiderter funktioneller Beschichtungen auf komplex-geometrischen Substraten sowie Partikelmaterialien.
Die Beneq TFS 500 ist eine Beschichtungsanlage auf Basis der thermischen Atomlagenabscheidung für die Forschung und Entwicklung und Batchproduktion zur Herstellung homogener und uniformer Einzelschichten sowie von Nanolaminatsystemen. Der Schwerpunkt liegt in der Abscheidung von Metalloxiden (z.B. Al2O3, TiO2, ZnO, SnO2, Nb2O5, SiO2) zur Anwendung als optische Funktionsschicht, Barriereschicht, Batteriematerialienfunktionalisierung, Partikel- und Textilbeschichtung.
Die FHR Star 400x300 SALD Beschichtungsanlage basiert auf der thermischen örtlichen Atomlagenabscheidung für die Hochdurchsatzbeschichtung zur Abscheidung homogener und uniformer Einzelschichten sowie von Nanolaminatsystemen. Der Schwerpunkt liegt in der Abscheidung von Metalloxiden zur Anwendung als optische Funktionsschicht, Barriereschicht, Energiematerialfunktionalisierung und Textilbeschichtung. Die flexible Auslegung erlaubt hierbei die Integration verschiedener Beschichtungs- und Aktivierungsmöglichkeiten innerhalb eines dedizierten Hybridbereiches sowie innerhalb der Präkursorzonen.