Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST
Örtliche Atomlagenabscheidung: Blick auf den rotierenden Drehteller unterhalb des Heizblocks im Hybrid-Bereich.
Atomlagenabscheidung (ALD)
Schicht- und Prozessentwicklung zur Abscheidung konformer und uniformer Schichtsysteme
Die Atomlagenabscheidung ist ein modifiziertes Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung. Die Merkmale des Prozesses sind zwei aufeinanderfolgende sich selbst begrenzende Oberflächenreaktionen, sodass extrem dünne, defektarme und äußerst homogene Schichten abgeschieden werden können. Ein wesentlicher Vorteil ist hierbei die präzise Kontrolle von Schichtdicke und Materialzusammensetzung für dreidimensionale, komplex-geometrische oder strukturierte Substrate, wodurch hochkonforme und -uniforme Schichten realisiert werden.
Ihr Partner für innovative Beschichtungslösungen
Das Fraunhofer IST bietet Kundinnen und Kunden aus Industrie und Forschung anwendungsspezifische und flexible Lösungen an. Unser Angebot im Bereich konformer Beschichtungen reicht von der Prozessentwicklung für thermische ALD-Schichtsysteme bis zu Entwicklungen maßgeschneiderter funktioneller Beschichtungen auf komplex-geometrischen Substraten sowie Partikelmaterialien.
Beneq TFS 500
Mit ALD können dreidimensionale Objekte mit unterschiedlichen Formen und komplexen Geometrien mit hoher Konformität und Homogenität beschichtet werden.
Die Beneq TFS 500 ist eine Beschichtungsanlage auf Basis der thermischen Atomlagenabscheidung für die Forschung und Entwicklung und Batchproduktion zur Herstellung homogener und uniformer Einzelschichten sowie von Nanolaminatsystemen. Der Schwerpunkt liegt in der Abscheidung von Metalloxiden (z.B. Al2O3, TiO2, ZnO, SnO2, Nb2O5, SiO2) zur Anwendung als optische Funktionsschicht, Barriereschicht, Batteriematerialienfunktionalisierung, Partikel- und Textilbeschichtung.
Spezifikationen / technische Daten
- Thermische Atomlagenabscheidung
- Batchcoater (cross flow & stop flow für 2D/3D, forced flow fluidized bed für Partikel)
- 3D-Schleuse und 2D-Loadlock
- Substratmaterialien: Wafer, Glas, Kunststoffe, Metalle, Textilien, Partikel
- Single Wafer: ø200 ×10 mm
- 3D-Batch (Multiwafer): ø210 × 170 mm
- Partikelbeschichtung: ø80 × 50 mm (~ 100 cm3), Partikelgröße > 10 µm
FHR Star 400x300 SALD
FHR Star 400x300 SALD Beschichtungsanlage zur thermischen örtlichen Atomlagenabscheidung.
Die FHR Star 400x300 SALD Beschichtungsanlage basiert auf der thermischen örtlichen Atomlagenabscheidung für die Hochdurchsatzbeschichtung zur Abscheidung homogener und uniformer Einzelschichten sowie von Nanolaminatsystemen. Der Schwerpunkt liegt in der Abscheidung von Metalloxiden zur Anwendung als optische Funktionsschicht, Barriereschicht, Energiematerialfunktionalisierung und Textilbeschichtung. Die flexible Auslegung erlaubt hierbei die Integration verschiedener Beschichtungs- und Aktivierungsmöglichkeiten innerhalb eines dedizierten Hybridbereiches sowie innerhalb der Präkursorzonen.
Spezifikationen/ technische Daten
- Drehtelleranlange für thermische örtliche Atomlagenabscheidung
- 100 rpm (Al2O3: 10 nm/min)
- Substratmaterialien: Wafer, Glas, Kunststoffe, Metalle, Textilien
- 4 x 2D-Substrate: Ø200 mm
- 2 x 3D-Substrate: 400 x 300 mm
- Maximale Substratdicke: 10 mm
- Hybridzone zur Integration verschiedener Beschichtungs- und Aktivierungsmöglichkeiten
- Modulare und flexible Anlagenauslegung und Prozessanpassung
Bestückung der Anlage mit einem 8“-Si-Wafer.
Blick auf den rotierenden Drehteller und Heizblock.
Örtliche Atomlagenabscheidung: Blick auf den rotierenden Drehteller unterhalb des Heizblocks im Hybrid-Bereich.