Mikrostrukturierung

Anordnung von mehreren Pixelfilter-Bereichen auf einem Glassubstrat.
© Fraunhofer IST, Falko Oldenburg
Anordnung von mehreren Pixelfilter-Bereichen auf einem Glassubstrat.

Fotolackprozessierung und Fotolithographie

Unsere Experten am Fraunhofer IST besitzen umfangreiche Kompetenzen für die Erzeugung von Mikrostrukturen und nutzen dafür vielfältige Strukturierungsverfahren und -techniken im eigenen Reinraum. Zur Herstellung hochpräziser Strukturen direkt auf Werkzeug- und Bauteiloberflächen sowie Wafern oder Glassubstraten werden klassische fotolithographische Prozesse mit Ätztechnik und Lift-Off verwendet. Durch die optimale Lackauswahl, dem Einsatz diverser Belackungstechniken sowie der Nutzung verschiedener Belichtungsverfahren können wir ein breites Spektrum an Strukturgrößen und -designs realisieren.

 

Lasertechnologie für vielfältige Einsatzmöglichkeiten

Zur weiteren Funktionalisierung von Oberflächen und dünner Schichten wird die Laserstrukturierung seit vielen Jahren erfolgreich eingesetzt. Dabei können mittels eines Nanosekundenlasersystems entweder die Strukturen direkt in Substrate nahezu aller Materialklassen eingeschrieben werden oder es erfolgt eine Laser-Direktbelichtung in Kombination mit fotolithographischen Prozessen. Unsere große Erfahrungsbasis auf dem Gebiet erlaubt die Kombination verschiedener Verfahren, sodass auch gekrümmte Oberflächen strukturiert werden können.

Ausgewählte Referenzprojekte

 

Strukturierte CVD-Diamant-Mikroschleifstifte

 

Entwicklung eines sensorischen Königszapfens