Plasmaaktivierte chemische Gasphasenabscheidung PACVD

Industrielle PACVD-Beschichtungsanlage am Fraunhofer IST.
© Fraunhofer IST, Rainer Meier, BFF Wittmar
Industrielle PACVD-Beschichtungsanlage am Fraunhofer IST.

Schichtdeposition aus der Gasphase – PACVD am Fraunhofer IST

In einer Plasmaentladung werden Gase und Dämpfe angeregt, dissoziiert und ionisiert. Die so entstehenden Partikel formen die gewünschten Beschichtungen auf den Bauteilen und Werkzeugen. Vielfältige Einflussmöglichkeiten auf die eigenschaftsbestimmenden Parameter ermöglichen die Abscheidung unterschiedlichster funktionaler Beschichtungen, in einem gleichzeitig wirtschaftlichen und einfach handhabbaren Verfahren. Plasma Activated Chemical Vapor Deposition (PACVD) ist seit Jahrzehnten eine intensiv genutzte Technologie am Fraunhofer IST.

Optimierte Oberflächenfunktionalitäten für unterschiedlichste Anwendungsfälle

Die PACVD-Beschichtungstechnologie ist in vielen Bereichen nutzbringend anwendbar. Anwendungen in Mobilität, Produktion, Verfahrenstechnik, Pharmazie, Lebensmittelverarbeitung und viele mehr profitieren von den vielfältigen Eigenschaftsprofilen der hergestellten Schichten. Sie erfüllen Aufgaben des Verschleißschutzes und der Reibungsminderung, Einstellung optimaler Adhäsion und geforderter elektrischer Eigenschaften, bis hin zu optischen und dekorativen Anforderungen. Am Fraunhofer IST forschen wir zu diesen Aufgaben von den grundlegenden Aspekten bis zur Industrie- und Gebrauchstauglichkeit.                                                                                      

 

PACVD-Beschichtungsanlagen

Blick auf das Technikum des Fraunhofer IST.
© Fraunhofer IST, Sandra Yoshizawa
Blick auf das Technikum des Fraunhofer IST.

Das Fraunhofer IST verfügt über mehrere PACVD-Beschichtungsanlagen. Eine Vielfalt an Bauteilgrößen, -formen und -werkstoffen können mit unterschiedlichsten Schichtsystemen versehen werden. Sowhl experimentelle Beschichtungen im Labormaßstab als auch Musterbeschichtungen für konkrete Anwendungen und den industriellen Einsatz sind herstellbar.

Spezifikationen / technische Daten

  • Substratmaterialien: Metalle (Stähle, Nichteisenmetalle), Keramik, Kunststoffe, Glas
  • Beschichtungen für Verschleißschutz, Reibungsminderung, Easy-to-clean, Anti-Fouling, definierte elektrische Leitfähigkeit, Dekoration u.v.m.
  • Prozesstemperaturen bis max. 300°C
  • Beschichtungsraum bis zu 500 x 1000 mm

Unsere Schwerpunkte und Kompetenzen im Bereich der plasmaaktivierten chemischen Gasphasenabscheidung

 

Verschleißfeste Antihaft-Schichten