Konferenz  /  08. Juni 2026  -  10. Juni 2026

12th International Conference on Hot-Wire Chemical Vapor Deposition (HWCVD12)

Vom 7. bis 9. Juni 2026 findet in Jiujiang (Jiangxi-Provinz, China) die 12. International Conference on Hot-Wire Chemical Vapor Deposition (HWCVD12) statt. Die international renommierte Konferenz bringt führende Wissenschaftlerinnen und Wissenschaftler aus dem gesamten HWCVD-Ökosystem zusammen. Ziel der Veranstaltung ist es, aktuelle Forschungsergebnisse, technologische Entwicklungen und industrielle Anwendungen im Bereich der Beschichtungstechnologien zu diskutieren und die Zusammenarbeit zwischen Grundlagenforschung, Anlagenentwicklung und industrieller Anwendung weiter zu stärken.

Ein besonderer Fokus der Konferenz liegt auf folgenden Themen:

  • Grundlagen: Gas- und Oberflächenchemie, Reaktionsmechanismen, Katalyse, Modellierung und Simulation
  • Prozesse: HWCVD, Cat-CVD, iCVD sowie weitere CVD-Varianten
  • Materialien: Siliziumbasierte Materialien, Halbleiter, Polymere, Metalle und Verbundstoffe
  • Strukturen: Dünnschichten, Beschichtungen, Nanostrukturen und Partikelsysteme
  • Anwendungen: Energiegewinnung und -speicherung, Photovoltaik, Elektronik, Wasserstofftechnologien, Sensorik u. v. m.
  • Kommerzialisierung: Skalierung, Technologietransfer und industrielle Systeme

Das Fraunhofer IST wird von Dr. Volker Sittinger, Abteilungsleiter Diamantbasierte Systeme, mit einem Vortrag vertreten. Unter dem Titel »Large-area deposition of silicon-based coatings for various applications« stellt er aktuelle Arbeiten zur großflächigen Abscheidung siliziumbasierter Beschichtungen vor und gibt Einblicke in deren vielfältige Einsatzmöglichkeiten.

 

Large-area deposition of silicon-based coatings for various applications

Dr. Volker Sittinger