Maschinenkomponenten für die Halbleitertechnik

Beschichtungen für Komponenten und Bauteile in der Halbleiterfertigung

Diamantbeschichteter Siliziumwafer (300 mm) mit einer Schichtdicke im Bereich Min/Max (1013 nm/1059 nm).
© Fraunhofer IST
Diamantbeschichteter Siliziumwafer (300 mm) mit einer Schichtdicke im Bereich Min/Max (1013 nm/1059 nm).

Halbleiterproduktion mit höchster Zuverlässigkeit, Reinheit und Effizienz

Die Halbleiterindustrie stellt höchste Anforderungen an Produktionsanlagen und deren Komponenten. In hochkomplexen Fertigungsprozessen unter Reinraumbedingungen müssen Maschinen zuverlässig, präzise und über lange Zeiträume stabil arbeiten. Stillstände, Bauteilversagen oder Partikelkontaminationen führen unmittelbar zu Ertragsverlusten und sind wirtschaftlich nicht akzeptabel. Insbesondere für Maschinenkomponenten wie Wafer-Chucks, Handlingsysteme oder Dicht‑ und Fokusringe sind daher anforderungsgerechte Funktionsbeschichtungen erforderlich, um gezielt Verschleiß, Korrosion und Partikelbildung zu reduzieren und die Effizienz in der Halbleiterproduktion zu erhöhen.

Beschichtungskompetenz des Fraunhofer IST für leistungsfähige Maschinenkomponenten

Das Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST verfügt über langjährige Expertise in der Entwicklung und Applikation funktionaler Schichten, die die Leistungsfähigkeit und Lebensdauer von Maschinenkomponenten auch in der Halbleiterfertigung entscheidend erhöhen können. Maßgeschneiderte Schichtsysteme wie CVD‑Diamant-, DLC- oder keramischen Hartstoffschichten sowie Isolations‑ und Barriereschichten schützen vor Verschleiß, Erosion, Korrosion sowie chemischer und thermischer Belastung. Gleichzeitig reduzieren sie Reibung und Partikelbildung und tragen dazu bei, höchste Reinheit und Zuverlässigkeit in der Produktion sicherzustellen. 

Von der Bemusterung über Prototyp und Kleinserie bis zum Transfer

Mit industriellen CVD‑, ALD‑ und PVD‑Anlagen begleitet das Fraunhofer IST Projekte von der Bemusterung über Prototypen und Kleinserien bis zum Technologietransfer. Dabei werden sowohl Lösungen für großformatige als auch für filigrane und komplexe Maschinenkomponenten realisiert. So können beispielweise mit der Diamantbeschichtungsanlage CVDiamond XXL Flächen von bis zu 500 × 1000 mm² homogen beschichtet werden.

Profitieren Sie von unserem Know-how und unserer Beschichtungskompetenz und entwickeln Sie gemeinsam mit unseren Expertinnen und Experten die passende Lösung für Ihre Anwendung in der Halbleiterindustrie.

 

 

Ausgewählte Referenzprojekte

 

Referenzprojekt

SemiProcessing

Präzise Bestimmung optischer Konstanten für großflächige Diamantschichten

 

Referenzprojekt

Siliziumschichten für MEMS

 

Referenzprojekt

Materialien für nachhaltige Tandemsolarzellen

mit höchster Umwandlungseffizienz

 

Referenzprojekt

Hocheffiziente Silizium-Solarzellen

für Autodächer

Unsere Schwerpunkte und Kompetenzen

CVD-Technologien (englisch: chemical vapor deposition) ermöglichen die großflächige Herstellung von Diamant als Schichtwerkstoff und damit erst dessen wirtschaftlichen und vielseitigen Einsatz. Darüber hinaus steht am Fraunhofer IST ein breites Spektrum von Schichtwerkstoffen und angepasste Prozessführungen bis hin zur ultrapräzisen Abscheidung von Atomlagen zur Verfügung.

 

Technologie

Chemische Gasphasenabscheidung

 

Effiziente, langlebige und robuste Bauteile für industrielle Anwendungen

Diamantbasierte Systeme

 

Diamantbasierte Systeme

Nachhaltige Bauteil- und Werkzeugbeschichtung

Wir bieten Lösungen für Ihre Anwendungen

 

Branchenlösungen

Halbleiterindustrie

 

Branchenlösungen

Energie

 

Branchenlösungen

Anlagen- und Maschinenbau, Werkzeuge