Physikalische Gasphasenabscheidung PVD

Inline-Beschichtungsanlage mit Doppelrohrmagnetron zur reaktiven Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-Abscheidung.
© Fraunhofer IST, Falko Oldenburg
Inline-Beschichtungsanlage mit Doppelrohrmagnetron zur reaktiven Al2O3-Abscheidung.

Unsere Technologien im Bereich Physikalische Gasphasenabscheidung PVD#

Bei der physikalischen Gasphasenabscheidung (engl.: Physical Vapor Deposition, PVD) liegt das Beschichtungsmaterial innerhalb der Vakuumkammer in flüssiger oder fester Form vor. Das Material wird atomar, als Molekül oder als Cluster in die Gasphase überführt, gelangt durch kinetische (physikalische) Bewegung zur Substratoberfläche und scheidet sich dort ab (kondensiert).

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