Laborausstattung und Großanlagen

Das Fraunhofer IST verfügt über ein umfangreiches Technikum zur Herstellung von Prototypen und zur Kleinserienfertigung. Hier bekommen Sie eine Übersicht über unsere Ausstattung.

  • Produktionsanlagen für a-C:H:Me, a-C:H, Hartstoff-Schichten (bis 3 m3 Volumen)
  • Beschichtungsanlagen auf der Basis der Magnetron- und RF-Dioden-Zerstäubung
  • Sputteranlagen für optische Präzisionsschichten
  • In-line-Beschichtungsanlage für großflächige optische Funktionsschichten (bis 60 × 100 cm2)
  • Industrielle Beschichtungsanlagen mit HIPIMS-Technologie
  • Plasmadiffusionsanlagen
  • Anlagen für Hohlkathodenverfahren
  • Beschichtungsanlage für thermische und plasma-aktivierte Atomlagenabscheidung (ALD) (2D und 3D)
  • Heißdraht-CVD-Anlagen für die Abscheidung von kristallinen Diamantschichten auf Flächen bis 50 x 100 cm2 und für die Innenbeschichtung
  • Heißdraht-CVD-Anlagen für die Abscheidung von Silizium-basierten Schichten (Batchverfahren und Durchlaufverfahren bis 50 × 60 cm2)
  • Anlagen für die Beschichtung mittels plasma-aktivierter CVD (PACVD), kombiniert mit Plasmanitrieren
  • Atmosphärendruck-Plasmaanlagen zur großflächigen Funktionalisierung und Beschichtung (bis 40 cm Breite)
  • Mikroplasmaanlagen zur selektiven Funktionalisierung von Oberflächen (bis ∅ = 20 cm)
  • Bond-Aligner mit integriertem Plasmatool zur Vorbehandlung von Wafern im Reinraum
  • Rolle-zu-Rolle-Anlage zur ortsselektiven Oberflächenfunktionalisierung bis 10 m/min
  • Anlage zur Innenbeschichtung von Beuteln oder Flaschen
  • Laser für 2D- und 3D-Mikrostrukturierung
  • Automatisierte Anlage zur Polyelektrolyt-Abscheidung
  • Zwei Mask Aligner für photolithographische Strukturierung
  • Mikrostrukturierungslabor (40 m2 Reinraum)
  • Anlage zur galvano­technischen Metallisierung von Hohlleitern (11 Aktivbäder mit einem Volumen von je 140 l und 1 Nickelbad mit einem Volumen von 400 l)
  • Modulare Technikumsgalvanik (20 Stationen für Aktivbäder mit einem Volumen von je 20 l)
  • Eloxal-Anlage (11 Aktivbäder mit einem Volumen von je 140 l und 2 Eloxal-Bäder mit einem Volumen von je 350 l)
  • Technikumsanlage für galvanotechnische Prozesse
  • 15-stufige Reinigungsanlage auf wässriger Basis
  • Reinraum Technikum (25 m²)
  • Reinraum Sensorik (35 m²)
  • Laserstrukturierungslabor (17 m2)
  • Mobile Atmosphärendruck-Plasmaquellen
  • Nanosekunden-Festkörperlaser (Nd: YAG-Laser)
  • CO2-Laser sowie Excimer-Laser
  • EUV-Spektrographie
  • Halbleiterlaser
  • Pikosekundenlaser
  • Hochauflösendes Rasterelektronenmikroskop mit energiedispersiver Röntgenspektroskopie (EDX)
  • Rasterelektronenmikroskop mit Focussed Ion Beam (FIB)
  • Elektronenstrahl-Mikrosonde (WDX)
  • Sekundärionen-Massenspektrometer (SIMS)
  • Röntgen-Diffraktometer zur Strukturanalyse und für Reflektrometrie-Messungen (XRD, XRR)
  • Röntgen-Photoelektronen-Spektroskopie (XPS)
  • Röntgenfluoreszenzanalyse (RFA / XRF)
  • Glimmentladungsspektroskopie (GDOES)
  • Konfokales Laser-Mikroskop (CLM)
  • Rastertunnel- und Rasterkraftmikroskop (STM / AFM)
  • FTIR-Mikroskop