Orlando, Florida, USA  /  5.5.2018  -  10.5.2018

SVC TechCon 2018

Auch 2018 beteiligt sich das Fraunhofer IST erneut mit zahlreichen Beiträgen an der SVC TechCon. Im Folgenden geben wir Ihnen einen Überblick über alle Beteiligungen des Instituts:

 

Montag, 7. Mai

MODERATOR EN
Coatings for Energy Conversion and Related Processes
C. G. Granqvist, V. Sittinger

9.20 Uhr  LT1
Square Wave or Sine Wave: Simulation of Waveform and Frequency effects in Dual Magnetron Sputtering
M. Siemers, A. Pflug, M. Heintze

9.40 Uhr EN2 
Deposition of Surface Passivation Layer for Silicon Heterojunction Solar Cells by Hot-Wire CVD
M. Justianto, M. Höfer, T. Harig, V. Sittinger

11.00 Uhr PT4
Controlling Stoichiometry and Ionization of Reactive HIPIMS Processes by Using Plasma Emission Monitoring
J. Rieke, H. Gerdes, R. Bandorf, T. Schütte, M. Vergöhl, G. Bräuer

13.40 Uhr ET1
Microwave Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition of Carbon
H. Gerdes, R. Bandorf, R. Schäfer, T. Schütte, M. Vergöhl, G. Bräuer

15.00 Uhr HP4
Piezoresistive Behavior of Niobium-Doped DLC Layers Prepared by Reactive HIPIMS
M. Grein, R. Bandorf, G. Bräuer

 

Dienstag, 8. Mai

MODERATOR SYM
Symposium on Multi-Functional Thin Films – The Tailoring of Interfaces
R. Bandorf, M. Junghähnel

9.40 Uhr, SYM 2
Thick Functional Coatings Deposited by Gas Flow Sputtering
R. Bandorf, K. Ortner, T. Jung, J. Gerstenberg, M. Vergöhl, G. Bräuer

9,40 Uhr LT8
HPMF Process of Al-Doped Zinc Oxide Films from Rotatable Targets
V. Sittinger, S. Jung, C. Britze, H. Gerdes, D. Schorn, T. Wallendorf, G. Bräuer

 

Mittwoch, 9. Mai

MODERATION TT
Protective, Tribological, and Decorative Coatings

I. Kolev, M. Keunecke

MODERATION JT
Fundamental Aspects of Coatings: A Joint Session Organized with ICMCTF (AVS/ASED)
H. Gerdes, J. Lin

 

Donnerstag, 10. Mai

12.00 Uhr TT13
Preparation of a-C:H Coatings with reactive Sputter Techniques using Neon-Argon Gas Mixtures
M. Keunecke, K. Bewilogua