Providence, Rhode Island, USA  /  29.4.2017  -  4.5.2017

SVC TechCon 2017

Standnummer: 825

Auch 2017 ist das Fraunhofer IST wieder auf der SVC TechCon vertreten. Im Rahmen der begleitenden Ausstellung werden u.a. die neuesten Ergebnisse aus dem Bereich der HIPIMS-Technologie präsentiert. An der Konferenz beteiligt sich das Fraunhofer IST wie bereits in den vergangenen Jahren mit zahlreichen Beiträgen. Im Folgenden geben wir Ihnen einen Überblick über alle Beteiligungen des Instituts: 

Montag, 1. Mai

1.40 p.m. MODERATOR
Protective, Tribological and Decorative Coatings I (C. Stein)

3.00 p.m. Deposition of low residual stress SiO2 films by Hot-Wire CVD processes with a high rate for optical applications
V. Sittinger, M. Höfer, T. Harig, M. Justianto, H. Thiem, M. Vergöhl, L. Schäfer

4.00 p.m. MODERATOR
Protective, Tribological and Decorative Coatings II (C. Stein)

 

Dienstag, 2. Mai

9.10 a.m. Controlling the ion to neutral ratio by measuring the plasma emission in a non-reactive HIPIMS process
H. Gerdes, J. Rieke, R. Bandorf, T. Schütte, M. Vergöhl, G. Bräuer

9.10 a.m. Tool coating systems and modified diamond-like carbon coatings (a-C:H:X) for polymer processing
C. Stein, M. Keunecke, I. Bialuch, M. Weber, K. Bewilogua, G. Bräuer

 

Donnerstag, 4. Mai

10.20 a.m. Standing waves in dc and pulsed dc magnetron sputtering
M. Siemers, A. Pflug, T. Melzig

11.20 a.m. Process transfer from R&D to small industrial cathode
R. Bandorf, D. Spreemann, H. Gerdes, M. Vergöhl, G. Bräuer