Die Technologie
Beim plasmaaktivierten CVD-Verfahren (PACVD; PECVD) unterstützt ein Plasma die Abscheidung von Schichten aus der Gasphase. Dabei werden Precursoren (in Form von Gasen oder Dämpfen) verwendet, die die Elemente des Schichtmaterials enthalten. Am Fraunhofer IST wird dieses Verfahren vor allem zur Abscheidung modifizierter diamantähnlicher Kohlenstoffschichten (a-C:H:X, X steht für die zusätzlich eingebrachten Elemente, z. B. Si, O, F) verwendet. Als Precursoren dienen dabei Verbindungen wie TMS oder HMDSO. Mit PACVD-Verfahren lassen sich auch Hartstoffschichten, wie TiN oder TiCN herstellen.