Isolationsschichten

Am Fraunhofer IST werden dünne elektrische Isolationsschichten auf anorganischer Basis hergestellt. Zumeist handelt es sich um Metalloxide mit Schichtdicken von einigen 100 nm bis einigen Mikrometern – je nach geforderter Durchschlagfestigkeit. Diese Schichten sind besonders temperatur- und verschleißbeständig und besitzen eine höhere Wärmeleitfähigkeit als organische Schichten, so dass sie effizient in der Industrie eingesetzt werden können.

 

Weitere Informationen

Isolationsschichten mit hoher Spannungsfestigkeit