Beiträge aus dem Bereich Optik

 

Eigenspannungsarme Siliziumoxid-Schichten

Am Fraunhofer IST wurde erstmalig das Heißdraht-CVD-Verfahren als alternative Herstellungsmethode für SiO2-Schichten evaluiert.

 

Pixelfilter

Am Fraunhofer IST wurde für die Herstellung sogenannter Pixelfilter ein neues Kombinationsverfahren bestehend aus Beschichtung und Mikrostrukturierung entwickelt.

 

Neuartiges Spektrometer

Mit Hilfe von Dünnschichttechnologien können für Industrie und Technik notwendige Interferenzfilter hergestellt werden. Am Fraunhofer IST wurde ein Spektrometer mit geringerem Divergenzwinkel aufgebaut.

 

EOSS®-Demonstrator

Das Fraunhofer IST hat mit der Entwicklung und dem Aufbau der innovativen Beschichtungsplattform EOSS® neue Möglichkeiten für die Abscheidung hochanspruchsvoller optischer Beschichtungen geschaffen.

 

Optische Interferenzschichtsysteme

Das Fraunhofer IST entwickelt optimierte Beschichtungsprozesse für optische Interferenzschichtsysteme auf Polymerfolien.

 

PECVD-Beschichtung für optische Schichtsysteme

Am Fraunhofer IST wurde ein PECVD-Prozess entwickelt, der es ermöglicht, mechanische Schichteigenschaften über einen breiten Bereich zu variieren.  

 

Kratzbeständige Antireflexbeschichtung

Das Fraunhofer IST hat Antireflexbeschichtungen hergestellt, die auch unter extremsten Bedingungen lediglich einen minimalen Abrieb aufweisen.