Beiträge aus dem Bereich Optik

Am Fraunhofer IST werden Prozesse zur homogenen und uniformen Siliziumoxid-Beschichtung einer Kugeloberfläche durchgeführt, um die Messunsicherheit zu verringern.

Mit der Beschichtungsplattform EOSS^® (Enhanced Optical Sputtering System) wurden am Fraunhofer IST ausgezeichnete Möglichkeiten für die Abscheidung hochanspruchsvoller optischer Beschichtungen geschaffen.

Mittels einer am Fraunhofer IST entwickelten Teilchensimulation kann die Verunreinigung von Staub in Plasma-Beschichtungsanlagen vorhergesagt werden.

Am Fraunhofer IST wurde erstmalig das Heißdraht-CVD-Verfahren als alternative Herstellungsmethode für SiO₂-Schichten evaluiert.

Am Fraunhofer IST wurde für die Herstellung sogenannter Pixelfilter ein neues Kombinationsverfahren bestehend aus Beschichtung und Mikrostrukturierung entwickelt.

Mit Hilfe von Dünnschichttechnologien können für Industrie und Technik notwendige Interferenzfilter hergestellt werden. Am Fraunhofer IST wurde ein Spektrometer mit geringerem Divergenzwinkel aufgebaut.

Das Fraunhofer IST hat mit der Entwicklung und dem Aufbau der innovativen Beschichtungsplattform EOSS^® neue Möglichkeiten für die Abscheidung hochanspruchsvoller optischer Beschichtungen geschaffen.

Das Fraunhofer IST entwickelt optimierte Beschichtungsprozesse für optische Interferenzschichtsysteme auf Polymerfolien.