Die Feng Chia Universtity in Taiwan hat Dr. Ralf Bandorf, Leiter der Gruppe »Hochionisierte Hochionisierte Plasmen und PECVD« am Fraunhofer IST zum »Distinguished Chair Professor FCU« berufen und würdigt damit die langjährige gute wissenschaftliche Zusammenarbeit. So wurde am 1. Juni 2018 die seit 2014 bestehende Partnerschaft zwischen dem Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST und der Feng Chia University in Taichung durch eine offizielle Kooperationsvereinbarung besiegelt. Eine erfolgreiche Zusammenarbeit hat sich insbesondere im Bereich des Hochleistungsimpuls-Magnetronsputterns (HIPIMS), einer innovativen Beschichtungstechnologie und dem Spezialgebiet von Dr. Ralf Bandorf, entwickelt. Das Ziel ist es nun, ein gemeinsames Zentrum für hochionisierte Plasmen aufzubauen.
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